Si amino-III-V-1,2-mercapto attrahitur, IV-Spermatophyta, placere patientes estote ad movere nova caeli; si cutis contactu contaminari deponebamus vestimenta lavare aqua utrem aquae lexivae nefanda. Si incommoda, quaerere consilium oculum patet si contactus separare palpebris aut normalis SAL accende intus stupam aquae et quaerere consilio celeriter Si ingestum, statim gargarizare non inducat vomitum et continuo consilium quaerere.

Factum est autem photoresist purgatio solutio ad para

Semiconductor manufacturing processus in communi ducunt et, quod persona est aliqua superficies materiae photoresist est in formatae, et contra similitudinem transfertur post nuditate. Obtenta debita forma privaretur citra residua photoresist eget elit. Hic processus, non requiritur ut sit omnino necesse est removere photoresist scabra positum sine aliquo subiecto positis distent. Hoc tempore, photoresist purgatio solutio maxime composito ex Suspendisse organicum possim incolumis fortis alcali et / aut aqua, etc. semiconductor conspersum oleo laganum de photoresist in remota ab immersing semiconductor chip potest ad liquidum aut Purgato baptismata semiconductor de chip cum purgatio liquidum .

Novum genus est developed photoresist purgatio solutio, qui est non humilis-aquae etching purgat. Continet; alcohole Amine, amino-III-V-mercapto, 1,2,4, atque Spermatophyta cosolvent. Hoc genus photoresist purgatio solutio adhiberi potest, ad removendum photoresist me minavit et adduxit in semiconductor. Eodem tempore impetum habet subiectum, ut metallum aluminium. Quid magis, in aqua ratio est fortis, repugnant et sua operatio maxime omnium dilatatur fenestra. Non est bonum Prospectus applicationem ad agros et semiconductor DUXERIT chip dictum.